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UV absorption spectroscopy to study the role of CF radicals during cryogenic etching of Si in CF4 plasmas
Martin Kogelschatz  1@  
1 : Laboratoire des technologies de la microélectronique
Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives, Centre National de la Recherche Scientifique, Université Grenoble Alpes, Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)

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